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可控硅投切低壓動態(tài)無功補償裝置主要特點及關鍵技術

發(fā)布時間:2024-05-28 13:27:02 瀏覽量:1006 返回上一頁

可控硅投切低壓動態(tài)無功補償裝置是一種用于提高電力系統(tǒng)功率因數(shù)、降低線路損耗的重要設備。以下是關于這種裝置的詳細介紹:

1. 裝置概述

低壓電容器.jpg

可控硅投切低壓動態(tài)無功補償裝置通過利用大功率晶閘管組成低壓雙向可控硅交流無觸點開關,實現(xiàn)對多級電容器組的快速過零投切。這種裝置可以實現(xiàn)對電力系統(tǒng)的動態(tài)跟蹤補償,提高系統(tǒng)的功率因數(shù),降低無功損耗。

2. 主要特點

快速響應:裝置采用過零觸發(fā)技術,在電網(wǎng)周波(20ms)系統(tǒng)電壓過峰值的準確時刻,向可控硅發(fā)出觸發(fā)脈沖,實現(xiàn)電容器組的快速投切。

無沖擊、無涌流:利用雙向反并聯(lián)晶閘管實現(xiàn)電壓、電流過零投切,確保投切過程無沖擊、無涌流和過電壓,不引入暫態(tài)諧波。

三相平衡:裝置可以實現(xiàn)三相平衡循環(huán)、組合投切,有效解決三相不平衡沖擊負荷無功補償?shù)募夹g難題。

在線監(jiān)測:具有在線參數(shù)設置和在線綜合測量功能,能夠實時監(jiān)測電網(wǎng)的三相電壓、電流、頻率、有功功率、無功功率、功率因數(shù)等運行數(shù)據(jù)。

模塊化設計:采用模塊化設計,安裝、維修方便,廣泛應用于冶金、化工、機械制造、軌道交通等行業(yè)。

3. 關鍵技術

可控硅投切開關:作為裝置的核心部件,可控硅投切開關替代了傳統(tǒng)的交流接觸器,具有電壓過零時刻投入、投切無涌流等特點。其原理是通過過零觸發(fā)可控硅電路,在電壓過零瞬間投切電容,實現(xiàn)電流小、對器件保護好、電路無浪涌干擾等目的。

DSP數(shù)字化控制器:采用DSP數(shù)字化控制器,實現(xiàn)高精度控制和快速響應。

4. 應用效果

可控硅投切低壓動態(tài)無功補償裝置能夠有效解決電力系統(tǒng)功率因數(shù)低、存在諧波、負載波動頻繁、無功沖擊大、系統(tǒng)三相不平衡運行等電能質量問題。通過提高功率因數(shù)、降低線路損耗,可以提高電網(wǎng)的負載能力和供電質量,提升電力系統(tǒng)運行效率。

5. 結論

可控硅投切低壓動態(tài)無功補償裝置是一種高效、穩(wěn)定、可靠的電力系統(tǒng)無功補償設備。其快速響應、無沖擊、無涌流等特點,使得它在提高電力系統(tǒng)功率因數(shù)、降低線路損耗方面表現(xiàn)出色。同時,其模塊化設計和在線監(jiān)測功能也使得設備的安裝、維護更加便捷。

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